محمد عبدالاحد - دانشکده فیزیک دانشگاه صنعتی شریف، تهران
امید اخوان - دانشکده فیزیک دانشگاه صنعتی شریف، تهران
سودابه واثقی نیا - دانشکده فیزیک دانشگاه صنعتی شریف، تهران
علیرضا مشفق - دانشکده فیزیک دانشگاه صنعتی شریف، تهران، پژوهشکده علوم و فناوری نان

در این کار پژوهشی با استفاده از دستگاه میکروسکوپ نیروی اتمی (AFM) الگوهایی بروی لایه ماسک پلیمر فوتورزیست که برروی بستر LiTaO3 بروش لایه نشانی لایه نشانی گشته است،ایجاد گردید . پلیمر فوتورزیست به عنوان لایه ماسک در تکنولوژی ساخت قطعات میکرو الکترونیک کاربرد دارد . در (spin coating)چرخشی برروی لایه ماسک ایجاد گردید،همچنین اثر افزایش نیروی اعمال شده از طرف AFM نانومتر بوسیله نوک سوزن میکروسکوپ 20 تا 5 این فرایند الگوهایی در ابعاد نوک سوزن برروی عمق و کیفیت الگوها بررسی گردید .