CIVILICA We Respect the Science
(ناشر تخصصی کنفرانسهای کشور / شماره مجوز انتشارات از وزارت فرهنگ و ارشاد اسلامی: ۸۹۷۱)

گواهی نمایه سازی مقاله مقایسه روش های لیتوگرافی (اشعه ایکس و اشعه ی یونی)

عنوان مقاله: مقایسه روش های لیتوگرافی (اشعه ایکس و اشعه ی یونی)
شناسه (COI) مقاله: ELECA01_004
منتشر شده در اولین همایش منطقه ای برق و فناوریهای نوین در سال ۱۳۹۴
مشخصات نویسندگان مقاله:

مهدی رستم زادمنصور - گروه برق، دانشکده، دانشگاه آزاد اسلامی واحد اردبیل، اردبیل، ایران
عمید جمشیدی مقدم - گروه برق، دانشکده، دانشگاه آزاد اسلامی واحد اردبیل، اردبیل، ایران

خلاصه مقاله:
در علم الکترونیک لیتوگرافی نوعی روش برای انتقال نقشه و الگوی مدارات طراحی شده بر روی مواد نیمه هادی ها می باشد. لیتوگرافی اولین گام در انتقال اطلاعات مربوط به الگوی مدار روی ویفر است.پس اساس کار انتقال یک تصویر بر روی یک ماده حساس(ویفر) می باشد. با پیشرفت تکنولوژی،مدارات الکترونیکی روز به روز کوچکتر شده است. فشردگی مدارات و افزایش چگالی آن در یک آی سی منجر به تکامل و ساخت ابزارهای لیتوگرافی شده است. رسیدن ابعاد ادوات به زیر یک میکرومتر، نتیجه تکامل فناوری مختلف در عرصه لیتوگرافی بوده است.در این مقاله سعی شده است که دو روش لیتوگرافی اشعه ایکس و اشعه ی یونی مورد بررسی قرار گرفته و با یکدیگر مقایسه شود

کلمات کلیدی:
لیتوگرافی-نیمه هادی-ویفر-اشعه ی ایکس-اشعه ی یونی

صفحه اختصاصی مقاله و دریافت فایل کامل: https://www.civilica.com/Paper-ELECA01-ELECA01_004.html