CIVILICA We Respect the Science
(ناشر تخصصی کنفرانسهای کشور / شماره مجوز انتشارات از وزارت فرهنگ و ارشاد اسلامی: ۸۹۷۱)

گواهی نمایه سازی مقاله سنتز لایه نازک نانو ساختار اکسید ایندیم قلع (ITO) به روش سل-ژل و بررسی تاثیر غلظت سل و پارامترهای لایه نشانی چرخشی بر روی خواص الکتریکی و نورد آن

عنوان مقاله: سنتز لایه نازک نانو ساختار اکسید ایندیم قلع (ITO) به روش سل-ژل و بررسی تاثیر غلظت سل و پارامترهای لایه نشانی چرخشی بر روی خواص الکتریکی و نورد آن
شناسه (COI) مقاله: IMES05_380
منتشر شده در پنجمین همایش مشترک انجمن مهندسی متالورژی ایران در سال ۱۳۹۰
مشخصات نویسندگان مقاله:

سعید محمدی - دانشجوی کارشناسی ارشد، دانشکده مهندسی مواد و متالورژی دانشگاه تهران
حسین عبدی زاده - دانشیار، دانشکده مهندسی مواد و متالورژی دانشگاه تهران
محمدرضا گل و بستان فرد - دانشجوی دکتری، دانشکده مهندسی مواد و متالورژی دانشگاه تهران

خلاصه مقاله:
لایه نازک نانو ساختار اکسید ایندیم قلع (ITO) با شفافیت بالا در محدوده نور مرئی و هدایت مناسب به روش لایه نشانی چرخشی تهیه شد. جهت ایجاد لایه های مورد نظر، محلول سل اولیه شامل محلولهای کلرید اینیدم و کلرید قلع به همراه حلال های مناسب آماده شد. پس از مخلوط کردن محلول های و همزدن آن، سل ایجاد شده با روش لایه نشانی چرخشی بر روی زیر لایه در سرعت و مدت زمان معین نشانده شد. سپس لیایه ایجا شده در دمای 150 درجه سانتیگراد خشک شده و تحت عملیات آنیل در دمای 500 درجه سانتیگراد قرار گرفت. جهت بررسی نوع فازها و آنالیز شیمیایی از روش پراش پرتو اشعه نشر UV-Vis Spectrophotometer استفاده شد. آنالیز XRD نشان م یدهد که نانو ذرات اکسید ایندیم قلع دارای فاز مکعبی بیکسبیت می باشند. تصاویر FESEM بیانگر فیلم های کریستالین اکسید ایندیم قلع با اندازه ذرات کریستالی 17-40 نانو متر می باشند. همچنین نتایج نشان میدهد که فیلم های حاصل دارای شفافیت بالای 85% د رمحدوده نورد مرئی می باشند و کمترین مقاومت در غلظت سل 0/2 مولار و سرعت لایه نشانی 3000rpm حاصل شده است.

کلمات کلیدی:
اکسید ایندیم قلع (ITO)، لایه نازک نانو ساختار، سل-ژل، لایه نشانی چرخشی

صفحه اختصاصی مقاله و دریافت فایل کامل: https://www.civilica.com/Paper-IMES05-IMES05_380.html