نگین معنوی زاده - آزمایشگاه تحقیقاتی لایه های نازک، گروه مهندسی برق وکامپیوتر، دانشک
رشید صفاایسینی - آزمایشگاه ت
ابراهیم اصل سلیمانی - آزمایشگاه تحقیقاتی لایه های نازک، گروه مهندسی برق وکامپیوتر، دانشک
فاطمه دهقان نیری - آزمایشگاه تحقیقاتی لایه های نازک، گروه مهندسی برق وکامپیوتر، دانشک

در این مقاله ساختار اتصال Ni/Cu بر روی کریستال بس بلور سیلیکان به روش الکتروشیمیایی مورد بررسی قرار گرفته است . چنین ساختاری به دلیل کم هزینه بودن، مقاومت پایین، چسبندگی خوب و استفاده آسان، مورد توجه قرار گرفته است . در این ساختار نیکل به عنوان سدی برای جلوگیری از نفوذ مس به زیرلایه سیلیکان و همچنین برای به وجود آوردن اتصال اهمی مورد استفاده واقع می شود . از مس نیز به علت مقاومت الکتریکی پایین آن و همچنین مقاومت بالای آنها در برابر مهاجرت الکترونها استفاده میشود