CIVILICA We Respect the Science
(ناشر تخصصی کنفرانسهای کشور / شماره مجوز انتشارات از وزارت فرهنگ و ارشاد اسلامی: ۸۹۷۱)

بررسی و مقایسه خازن حاشیه ای گیت های فلزی و پلی سیلیکون در افزاره های نانومتری SOI

عنوان مقاله: بررسی و مقایسه خازن حاشیه ای گیت های فلزی و پلی سیلیکون در افزاره های نانومتری SOI
شناسه ملی مقاله: IPC86_220
منتشر شده در کنفرانس فیزیک ایران 1386 در سال 1386
مشخصات نویسندگان مقاله:

امیر جهانشاهی - دانشکده برق و کامپیوتر ، دانشگاه تهران ، تهران ، ایران
سیدمنوچهر حسینی - دانشکده برق و کامپیوتر ، دانشگاه تهران ، تهران ، ایران
بهزاد اسفندیار پور - دانشکده برق و کامپیوتر ، دانشگاه تهران ، تهران ، ایران
علی افضلی کوشا - دانشکده برق و کامپیوتر ، دانشگاه تهران ، تهران ، ایران

خلاصه مقاله:
در این مقاله اثر خازن حاشیه ای فلزی و پلی سیلیکون بر روی خازن موثر گیت در افزاره های نانومتری SOI بررسی شده است . با استفاده از یک مدل تحلیلی نشان داده می شود که اثر خازن حاشیه ای گیت های پلی بر روی خازن موثر گیت بیش از تاثیر خازن حاشیه ای گیت های فلزی می باشد و با مقیاس شدن افزاره های نانومتری این تاثیر بیشتر می گردد . برای مدل کردن خازن حاشیه ای گیت های فلزی و پلی سیلیکون از شیوه نگاشت همدیس استفاده شده است .

صفحه اختصاصی مقاله و دریافت فایل کامل: https://civilica.com/doc/22529/