یعقوب فرهنگ قوجه بیگلو - دانشگاه تربیت مدرس
احسان طاهری نساج - دانشگاه تربیت مدرس

پروسه پوشش دهی بایستی قابلیت تولید لایه های نازک بدون عیب دارای ضخامت یکنواخت و ساختار کنترل شده راداشته باشد. پروسه سل ژل یکی از رو شهایی است که برای ساخت ساختارهای متخلخل فیلم های اکسیدی نازک استفاده می شود و این بخاطر مزیت های جذابی است که دارد . در این کار سل های سیلیکا - تیتانیا با درصدهای حجمی 10 و 30 سل تیتانیا به سل سیلیکا با روش غوطه وری بر روی زیر لایه های آلومینای متخلخل و شیشه سودالایمی پوشش داده شده است و در دمای500°سینتر شده است . با استفاده از تصاویرSEM گرفته شده مشخص شده است که هرچه سطح صاف تر و بدون تخلخل باشد اندازه تخلخل ها ریز تر بوده و پوشش کمترین عیب را خواهد داشت