CIVILICA We Respect the Science
(ناشر تخصصی کنفرانسهای کشور / شماره مجوز انتشارات از وزارت فرهنگ و ارشاد اسلامی: ۸۹۷۱)

لیتوگرافی تداخل لیزری: شبیه سازی و نتایج تجربی

عنوان مقاله: لیتوگرافی تداخل لیزری: شبیه سازی و نتایج تجربی
شناسه ملی مقاله: NCOLE03_096
منتشر شده در سومین همایش ملی مهندسی اپتیک و لیرز ایران در سال 1392
مشخصات نویسندگان مقاله:

محمدباقر محمدنژاد زنجانی - سنندج، دانشگاه کردستان، دانشکده علوم، گروه فیزیک
عبدالله حسن زاده - سنندج، دانشگاه کردستان، دانشکده علوم، گروه فیزیک
سیلویا میتلر - گروه فیزیک، دانشگاه وسترن، لندن، انتاریو، کانادا

خلاصه مقاله:
چندین روش برای ساخت نانوساختارها روی زیر لایه جامد وجود دارد. مانند باریکه یونی کانونی شده (FIB) ، لیتوگرافی تداخل لیزری (LIL) و لیتوگرافی باریکه الکترونی (EBL) روش های FIB و EBL بسیار دقیق هستند و می توانند برای ساخت نقش ها در ابعاد نانو استفاده شوند. اما آنها بسیار پرهزینه و وقت گیر هستند. به هرجهت روش LIL خیلی سریع و ارزان است به علاوه LIL میتواند برای ساخت نانوساختارها در ناحیه های بزرگ استفاده شود. در این مقاله ما با استفاده از برنامه های متلب، نقش های حاصل از تداخل دو یا چند باریکه لیزری روی زیرلایههای پوشیده شده با یکلایه فتورزیست را شبیه سازی کردیم. چندین نقش برای مقایسه نتایج آزمایشگاهی با نتایج شبیه سازی ساخته شدند.نتایج شبیه سازی تطابق خوبی با خروجی های آزمایشگاهی دارند. نتایج نشان می دهند که با افزایش تعداد پرتودهی هانقش های حاصل شبیه حلقه های هم مرکزی میشوند که اختلاف بین شعاع دو حلقه مجاور برای تمام حلقهها یکسان است.

کلمات کلیدی:
آینه لوید،لیتوگرافی تداخل لیزری،نانو نقشهای دورهای

صفحه اختصاصی مقاله و دریافت فایل کامل: https://civilica.com/doc/223800/