نظام الدین دانشور - استاد تمام وقت گروه شیمی کاربردی ومهندسی شیمی دانشگاه تبریز
محمدعلی بهنژادی - استاد یار تمام وقت گروه شیمی کاربردی دانشگاهو آزاد اسلامی واحد تبریز
یاشار ذریه اصغر - کارشناس ارشد رشته شیمی کاربردی
علی رضا امانی قدیم - کارشناس ارشد رشته شیمی کاربردی

در این کار پژوهشی تخریب فتواکسیداسیونی ٤- نیتروفنل (4-NP) در حضور H2O2 با استفاده از راکتور ناپیوسته مجهز به لامپW)UV-C 15 ) در طول موج nm 254 بررسی شد. تاثیر پارامترهای عملیاتی از قبیل pH اولیه محلول ، غلظت 2H2O به کار رفته و شدت نور UV مورد مطالعه قرار گرفت . نتایج بررسی ها نشان دادند که افزایش غلظت آلاینده ، سرعت حذف را کاهش می دهد و ثابت سرعت ظاهری واکنش از سینتیک واکنشهای درجه اول پیروی می کند.افزایش آلاینده های شیمیایی از قبیلNa2CO3 , NaHCO3 NaCl در تخریب نوری موجب کاهش سرعت حذف شدند. همچنین افزایش جاروب کننده های الکترون مانند اتانول و ٢- پروپانول رادیکالهای هیدروکسیل را مصرف کرده و باعث کاهش میزان حذف شدند . نتایجHPLC نشان دادکه برخی از حد واسط ها ( ٤- نیترو کاتکول و هیدروکینون ) در طول فر آیند تخریب تشکیل شده و با افزایش مدت زمان تابش از بین می روند. همچنین نتایج نشان دادند که معدنیسازیNP در شرایط مطلوب رخ داده و کاهش COD - تا ٦٠ % درصد، بعد از ١٥٠ دقیقه تابش اتفاق می افتد.

فتواکسیداسیون -UV/H2O2 - ٤- نیتروفنل- محصولات حد واسط