بررسی کارایی فرآیند فتوکاتالیستی شبه فنتون هتروژنوس در حذف آنتی بیوتیک تتراسایکلین با استفاده از نانوکامپوزیت مغناطیسی FeNi۳/SiO۲/CuS

حذف آنتی بیوتیک ها به عنوان یکی از آلاینده های نوظهور در منابع آبی، از نگرانی های صنعت آب در سطح جهان است. نتایج مطالعات مختلف نشان دهنده آن است که فرایندهای فتوکاتالیتیک به منظور حذف این عوامل بسیار مطلوب عمل می کنند و در اکثر مواقع بدون تولید محصولات جانبی، بسیار موثر واقع می شوند. طی این فرایندها رادیکال ها هیدروکسیل و سوپراکسید تولید شده، ترکیبات آلی جذب شده را مورد حمله قرار داده و با تبدیل کردن به دی اکسید کربن و آب، به طور کامل معدنی می نماید. لذا در این مطالعه نانوکامپوزیت FeNi۳/SiO۲/CuS سنتز و با استفاده از آنالیز های FESEM، FTIR و VSM مشخصه یابی شد و سپس اثر بخشی آن در فرایند فتوکاتالیستی شبه فنتون هتروژنوس در حضور نور UV و پراکسید هیدروژن مورد بررسی قرار گرفت. در این فرایند پارامتر های مختلفی مانند pH، غلظت اولیه تتراسایکلین، دوز کاتالیست، غلظت پراکسید هیدروژن و زمان تماس مورد بررسی قرار گرفت. نتایج نشان داد حداکثر تخریب در ۵pH= بدست آمد و با افزایش دوز کاتالیست و غلظت اولیه آلاینده درصد حذف کاهش می یابد همچنین با افزایش زمان تماس و غلظت پراکسید هیدروژن راندمان حذف تتراسایکلین افزایش چشمگیری داشته است. بر اساس نتایج بدست آمده و به دلیل راندمان بالای حذف تتراسایکلین، این نانوکاتالیست را می توان به دلیل سنتز راحت، کم هزینه و جداسازی آسان، جهت حذف آلاینده های مختلف دارویی استفاده نمود.

کلیدواژه ها:

نانوکامپوزیت مغناطیسی ، تتراسایکلین ، تخریب ، فرایند شبه فنتون هتروژنوس فتوکاتالیستی ، محلول های آبی