ارزیابی ضخامت فوتوالکترود سلول خورشیدی نانوساختار حساس شده با رنگ و ساخت ماژول خورشیدی با استفاده از ضخامت بهینه
سال انتشار: 1393
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: فارسی
مشاهده: 1,267
فایل این مقاله در 5 صفحه با فرمت PDF قابل دریافت می باشد
- صدور گواهی نمایه سازی
- من نویسنده این مقاله هستم
استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:
شناسه ملی سند علمی:
NANOENERTECH02_008
تاریخ نمایه سازی: 25 مهر 1393
چکیده مقاله:
سلولهای خورشیدی نانوساختار حساس شده با رنگ از طریق اعمال ضخامتهای متفاوتی از لایه نازک TiO2 در فوتوالکترود الکترود آند ساخته شدند و میزان ضخامت این لایه با استفاده از میکروسکوپ الکترونی روبشی SEM مورد بررسی قرار گرفت. کارایی سلول های خورشیدی ساخته شده به وسیله بدست آوردن منحنی های مشخصه ولتاژ- دانسیته جریان با استفاده از دستگاه شبیه ساز خورشیدی مورد ارزیابی قرار گرفت. پارامترهای دانسیته جریان مدار کوتاه (Jsc) ، ولتاژ مدار باز (Voc) ، فاکتور پرکنندگی (FF) و بازدهی تبدیل (η) سلول های خورشیدی ساخته شده مورد مقایسه قرار گرفتند و میزان بهینه ضخامت لایه فوتوالکترود آند تعیین گردید. یک نمونه ماژول خورشیدی حاوی 8 سلول سری از نوع Z با اعمال ضخامت بهینه لایه نیمه هادی TiO2 به دست آمده ساخته شد.
کلیدواژه ها:
نویسندگان
مهدی منتظری پور
دانشکده مهندسی متالورژی و مواد دانشگاه تهران تهران، ایران
نسترن ریاحی نوری
بخش مواد غیرفلزی، مرکز شیمی و مواد پژوهشگاه نیرو تهران، ایران
علی مهدیخانی
بخش مواد غیرفلزی، مرکز شیمی و مواد پژوهشگاه نیرو تهران، ایران
مراجع و منابع این مقاله:
لیست زیر مراجع و منابع استفاده شده در این مقاله را نمایش می دهد. این مراجع به صورت کاملا ماشینی و بر اساس هوش مصنوعی استخراج شده اند و لذا ممکن است دارای اشکالاتی باشند که به مرور زمان دقت استخراج این محتوا افزایش می یابد. مراجعی که مقالات مربوط به آنها در سیویلیکا نمایه شده و پیدا شده اند، به خود مقاله لینک شده اند :