خواص فوتوکاتالیستی پوشش های اکسید تیتانیوم حاصل از فرآیند اکسیداسیونالکترولیتی پلاسمائی در حضور تنگستات سدیم

در تحقیق حاضر، پوشش متخلخل دی اکسید تیتانیوم با استفاده از روش اکسیداسیون الکترولیتی پلاسمائی رویسطح تیتانیوم خالص در یک حمام پایه فسفاتی ایجاد شد. پوشش دهی تحت دو شرایط ولتاژ ثابت و جریانثابت انجام شد و تاثیر حضور تنگستات در حمام بر فازهای ایجاد شده و در نتیجه بر رفتار فوتوکاتالیستیپوشش ها مورد بررسی شد. بررسی های فازی و ویژگی های ریزساختاری به ترتیب توسط آنالیز پراش اشاعهایکس و میکروسکوپ الکترونی روبشی گسیل میدانی انجام شد. پوشش حاصل از شرایط جریان ثابت، ۲TiO باساختار فازی آناتاز آلائیده با تنگستن را نشان داد درحالی که پوشش حاصل از ش رایط ولتاژ ثابت، یک کامپوزیت۳WO-۲TiO بود. عملکرد فوتوکاتالیستی پوشش ها جهت تخریب رنگ متیلن بلو تحت شبیه ساز نور خورشید وبا روش اسپکتروفتومتری Uv-vis ارزیابی گردید. درصد تخریب متیلن بلو توسط پوشش کامپوزیتی برابر با ۱۴درصد در مدت زمان ۳۶۰ دقیقه بود، در حالی که پوشش ۲TiO نلائیده با تنگستن در مدت زمان ۱۸۰ دقیقاهتوانست تخریب ۷۸ درصد را نشان دهد که حاکی از فعالیت فوتوکاتالیستی قابل توجه آن بود.

کلیدواژه ها:

اکسیداسیون الکترولیتی پلاسمایی ، تیتانیوم ، متیلن بلو ، فوتوکاتالیستی