تحلیل فرکتالی ویژگی های سطح لایه های نازک اکسید ایندیوم قلع
محل انتشار: مجله پژوهش فیزیک ایران، دوره: 12، شماره: 3
سال انتشار: 1391
نوع سند: مقاله ژورنالی
زبان: فارسی
مشاهده: 56
فایل این مقاله در 7 صفحه با فرمت PDF قابل دریافت می باشد
- صدور گواهی نمایه سازی
- من نویسنده این مقاله هستم
استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:
شناسه ملی سند علمی:
JR_PSI-12-3_008
تاریخ نمایه سازی: 8 آبان 1402
چکیده مقاله:
در این تحقیق، لایه های نازک اکسید ایندیوم آلاییده با قلع ( ITO ) در ضخامت های مختلف به روش تبخیر با پرتو الکترونی بر روی بستره شیشه ای در دمای اتاق تهیه شده است. ضخامت لایه ها ۱۰۰ ، ۱۵۰ و ۲۵۰ نانومتر می باشد. با استفاده از تحلیل فرکتالی، فرآیند رشد لایه (افزایش ضخامت) بر خصوصیات مورفولوژیکی سطح در حالت آمورف مورد بررسی قرار گرفت. مشاهده شد که با افزایش ضخامت، ناهمواری سطح ( RMS ) w و طول همبستگی عرضی x کاهش پیدا می کند. همچنین، نمای ناهمواری α و نمای رشد β ، به ترتیب برابر α =۰.۷۲±۰.۰۱ و β=۰.۱۱±۰.۰۱ ، به دست آمد. بر اساس این نتایج، دریافتیم که فرآیند رشد لایه ها را میتوان به صورت ترکیبی از مدل های خطی EW و پخش سطحی مولینز توصیف نمود.
کلیدواژه ها:
نویسندگان
فایق حسین پناهی
دانشگاه بوعلی سینا همدان
داود رئوفی
دانشگاه بوعلی سینا همدان