تهیه پوشش محافظ اکسیداسیون نانو Si3N4/SiC بر روی گرافیت بوسیله روش های EPD و نیترایداسیون مستقیم
سال انتشار: 1390
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: فارسی
مشاهده: 682
فایل این مقاله در 10 صفحه با فرمت PDF قابل دریافت می باشد
- صدور گواهی نمایه سازی
- من نویسنده این مقاله هستم
استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:
شناسه ملی سند علمی:
IMES05_240
تاریخ نمایه سازی: 23 خرداد 1392
چکیده مقاله:
در این پژوهش تلاش شد تا ظرفیت های روش ساده و ارزان قیمت الکتروفورز برای ایجاد پوشش مقاوم در برابر اکسیداسیون استفاده شود. بدین منظور بر روی پایه گرافیتی پوششی با نسبت 1:1 نانو SiC و Si تهیه شد. محیط اتانول از بین حلال های مختلف انتخاب و مقدار ید به عنوان ماده افزودنی به میزان 1/4g/L و زمان 180S و ولتاژ 40V به عنوان مقادیر بهینه برای تهیه این پوشش تعیین شدند. بررسی کینتیکی رفتار نشست، نشان دهنده پیروی از رفتار خطی و انحراف از آن در طی زمان با ضخیم شدن پوشش حین نشست است. سپس اسن پوشش جهت استحکام بخشی در دو دمای 1400 و 1450 درجه سانتیگراد واکنش نیتریداسیون مستقیم قرار گرفته و در نهایت دمای 1450 درجه سانتیگراد مناسب تر تشخیص داده شد. بررسی ساختار میکروسکوپی توسط SEM و تعیین فازها توسط XRD صورت گرفت.
کلیدواژه ها:
نویسندگان
محمودرضا شهریاری
کارشناسی ارشد مهندسی مواد -سرامیک دانشگاه تربیت مدرس
پروین علیزاده
دانشیار گروه سرامیک دانشگاه تربیت مدرس
سید علی خلیفه سلطانی
کارشناسی ارشد مهندسی مواد -سرامیک دانشگاه صنعتی مالک اشتر
مراجع و منابع این مقاله:
لیست زیر مراجع و منابع استفاده شده در این مقاله را نمایش می دهد. این مراجع به صورت کاملا ماشینی و بر اساس هوش مصنوعی استخراج شده اند و لذا ممکن است دارای اشکالاتی باشند که به مرور زمان دقت استخراج این محتوا افزایش می یابد. مراجعی که مقالات مربوط به آنها در سیویلیکا نمایه شده و پیدا شده اند، به خود مقاله لینک شده اند :