بررسی و شبیه سازی ترانزیستور اثر میدان فلز نیمه هادی گالیم آرسناید

سال انتشار: 1396
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: فارسی
مشاهده: 918

فایل این مقاله در 13 صفحه با فرمت PDF قابل دریافت می باشد

استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:

لینک ثابت به این مقاله:

شناسه ملی سند علمی:

EMAA09_035

تاریخ نمایه سازی: 7 اسفند 1396

چکیده مقاله:

ترانزیستور اثر میدان فلز نیمه هادی گالیم آرسناید 1 به دلیل خواص منحصر به فردش از جمله سرعت سوییچینگ بالا، نرخ بالای سیگنال به نویز و فرکانس کاری بالا یکی از قطعات به کار رفته در صنایع مخابراتی در باند مایکروویو می باشد که امروزه مدارهای مجتمع زیادی بر اساس این قطعه طراحی و ساخته شده است. در حقیقت تا اواخر دهه 1980 تمامی مدارات مجتمع میکروویو بر اساس این ترانزیستور ساخته می شد. اگر چه قطعات دیگری با کیفیت کاری بهتر جهت جایگزینی این ترانزیستور ساخته شدند، اما هنوز این ترانزیستور جایگاه ویژه ای در طراحی و ساخت مدارات سوییچینگ، تقویت کننده های قدرت و مدارات میکروویو دارد. در این تحقیق ترانزیستور اثر میدان فلز نیمه هادی گالیم آرسناید بررسی و شبیه سازی می شود. در ابتدا مقدمه ای از طراحی این ترانزیستور بیان می شود، شماتیک ساختار ترانزیستور ارایه می شود و معادلات مربوطه استخراج می گردد، سپس مراحل مختلف ساخت ترانزیستور بیان می شود. در ادامه برای اینکه درک بهتری از عملکرد این نوع ترانزیستور ایجاد شود، با استفاده از نرم افزار سیلواکو این ترانزیستور شبیه سازی و منحنی مشخصات آن رسم می گردد.

کلیدواژه ها:

ترانزیستور اثر میدان فلز نیمه هادی گالیم آرسناید - مراحل ساخت - شبیه سازی – مشخصات جریان ولتاژ

نویسندگان

عبداله عباسی

گروه مهندسی الکترونیک، دانشکده فنی و مهندسی، دانشگاه آزاد اسلامی واحد گرمسار، گرمسار، ایران.

طاهره رادسر

گروه مهندسی الکترونیک، دانشکده فنی و مهندسی، دانشگاه آزاد اسلامی واحد گرمسار، گرمسار، ایران.