لایه نشانی اکسید سیلیکون با استفاده از پلاسمای فشار جو DBD

سال انتشار: 1400
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: فارسی
مشاهده: 754

فایل این مقاله در 12 صفحه با فرمت PDF قابل دریافت می باشد

استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:

لینک ثابت به این مقاله:

شناسه ملی سند علمی:

ECMCONF05_031

تاریخ نمایه سازی: 29 خرداد 1400

چکیده مقاله:

در طی یک دهه گذشته منابع پلاسمای فشار جو، بسیار مورد توجه بوده تا جایی که استفاده از آن به عنوان یک ابزار لازم در صنعت پزشکی، صنایع چوبی، صنایع نساجی و... در تمیز کردن سطح، استریل کردن و ایجاد لایه محافظتی مورد مطالعه قرار گرفته است. اخیرا کاربردهای ایجاد رسوب دی اکسید سیلیکون با پلاسما به طور گسترده ای بررسی شده است. در این پروژه یک سیستم برای لایه نشانی اکسید سیلیکون به کمک پلاسما در فشار جو (روش DBD به معنای تخلیه از درون سد دی الکتریک ) ساخته و تست شده است. برای تولید اکسید سیلیکون از TEOS استفاده شده است مزیت اصلی سیستم ساخته شده نسبت به سیستم هایی که در قبل وجود داشتند استفاده از پلاسمای DBD بوده است که باعث ارزانی، سهولت و کاهش وزن سیستم می شود. به کمک این سیستم لایه های مختلفی با ضخامت های مختلف که باعث ارزانی، سهولت و کاهش وزن سیستم می شود. به کمک این سیستم لایه های مختلفی با ضخامت های مختلف SEM و نیز روش خازنی و غیره تست شده است

کلیدواژه ها:

لایه نشانی دی اکسید سیلیکون ، تترا اکسید سیلان ، طراحی سیستم لایه نشانی ، پلاسمای تخلیه دی الکتریک DBD ، منبع تغذیه ولتاژ بالا

نویسندگان

محمد جواد شریفی

دانشیار دانشگاه شهید بهشتی

حسین عظمتی

دانشجوی کارشناسی ارشد دانشگاه شهید بهشتی