A study of emerging semi-conductor devices for memory applications

سال انتشار: 1400
نوع سند: مقاله ژورنالی
زبان: انگلیسی
مشاهده: 136

فایل این مقاله در 17 صفحه با فرمت PDF قابل دریافت می باشد

استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:

لینک ثابت به این مقاله:

شناسه ملی سند علمی:

JR_IJND-12-3_001

تاریخ نمایه سازی: 10 خرداد 1401

چکیده مقاله:

In this paper, a study of the existing SRAM (Static Random Access Memory) cell topologies using various FET (Field Effect Transistor) low power devices has been done. Various low power based SRAM cells have been reviewed on the basis of different topologies, technology nodes, and techniques implemented. The analysis of MOSFET(Metal Oxide Semiconductor Field Effect Transistor), FinFET( Fin Field Effect Transistor), CNTFET (Carbon Nano Tube Field Effect Transistor), and TFET (Tunnel Field Effect Transistor) based SRAM cells on the basis of parameters such as stability, leakage current, power dissipation, read/write noise margin, access time has been done. HSPICE, TCAD, Synopsys Taurus, and Cadence Virtuoso were some of the software used for simulation. The simulations were done from a few µms to ۷nm technology nodes by different authors.

کلیدواژه ها:

نویسندگان

Shaifali Ruhil

Department of Electrical, Electronics and Communication Engineering, The NorthCap University, Gurgaon, India.

Vandana Khanna

Department of Electrical, Electronics and Communication Engineering, The NorthCap University, Gurgaon, India.

Umesh Dutta

Department of Electronics and Communication Engineering, Manav Rachna International Institute of Research and Studies, Faridabad, India.

Neeraj Shukla

Department of Electrical Engineering, King Khalid University Abha, Kingdom of Saudi Arabia.

مراجع و منابع این مقاله:

لیست زیر مراجع و منابع استفاده شده در این مقاله را نمایش می دهد. این مراجع به صورت کاملا ماشینی و بر اساس هوش مصنوعی استخراج شده اند و لذا ممکن است دارای اشکالاتی باشند که به مرور زمان دقت استخراج این محتوا افزایش می یابد. مراجعی که مقالات مربوط به آنها در سیویلیکا نمایه شده و پیدا شده اند، به خود مقاله لینک شده اند :
  • Moore G. E., (۲۰۰۶), Cramming more components onto integrated circuits. ...
  • Hopkinson M., (۲۰۱۵), With silicon pushed to its limits, what ...
  • “International technology roadmap for semiconductors,” (۲۰۰۷), http://www.itrs.net ...
  • Kuhn K. J., (۲۰۱۱), CMOS scaling for the ۲۲ nm ...
  • Roy K., Mukhopadhyay S., Mahmoodi-Meimand H., (۲۰۰۳), Leakage current mechanisms ...
  • Frank D. J., Dennard R. H., Nowak E., Solomon P. ...
  • Chenming H., (۱۹۹۶), Gate oxide scaling limits and projection. Tech. ...
  • Yee-Chia Y., Tsu-Jae K., Chenming H., (۲۰۰۳), MOSFET gate leakage ...
  • Chen J., Chan T. Y., Chen I. C., Ko P. ...
  • “International technology roadmap for semiconductors,” (۲۰۱۱), http://www.itrs.net ...
  • Skotnicki T., Hutchby J. A., Tsu-Jae K., Wong H. P., ...
  • Wong H. P., Frank D. J., Solomon P. M., (۱۹۹۸), ...
  • Solomon P. M., Guarini K. W., Zhang Y., Chan K., ...
  • Suzuki K., Tanaka T., Tosaka Y., Horie,H., Arimoto Y., (۱۹۹۳), ...
  • Nowak E. J., Aller I., Ludwig T., Kim K., Joshi ...
  • Salahuddin S. M., Shaik K. A., Gupta A., Chava B., ...
  • A Project funded byMHRD, Govt. of India, (۲۰۲۱), https://nptel.iitm.ac.in ...
  • Xie Q., Xu J., Taur Y., (۲۰۱۲), Review and critique ...
  • Girish H., Shashikumar D., (۲۰۱۶), Insights of performance enhancement techniques ...
  • Agarwal A., Mukhopadhyay S., Kim C. H., Raychowdhury A., Roy ...
  • Islam A., Hasan M., (۲۰۱۲), Leakage characterization of ۱۰T SRAM ...
  • He Y., Zhang J., Wu X., Si X., Zhen S., ...
  • Chang L., Fried D. M., Hergenrother J., Sleight J. W., ...
  • Chang I. J., Kim J., Park S. P., Roy K., ...
  • Chang M., Chiu Y., Hwang W., (۲۰۱۲), Design and Iso-Area ...
  • Chien Y., Wang J., (۲۰۱۸). A ۰.۲ V ۳۲-Kb ۱۰T ...
  • Chiu Y., Hu Y., Tu M., Zhao J., Jou S., ...
  • Wen L., Zhang Y., Zeng X., (۲۰۱۹), Column-selection-enabled ۱۰T SRAM ...
  • Torrens G., Alorda B., Carmona C., MalagÓn-PeriÁnez D., Segura J., ...
  • Grover A., Visweswaran G. S., Parthasarathy C. R., Daud M., ...
  • Pasandi G., Fakhraie S. M., (۲۰۱۴), An ۸T low-voltage and ...
  • Hisamoto D., Kaga T., Kawamoto Y., Takeda E., (۱۹۸۹), A ...
  • Hisamoto D., Wen-Chin L., Kedzierski J., Takeuchi H., Asano K., ...
  • Bin Y., Leland C., Ahmed S., Haihong W., Bell S., ...
  • Tang S. H., Chang L., Lindert N., Yang-Kyu C., Wen-Chin ...
  • Guillorn M., Chang J., Bryant A., Fuller N., Dokumaci O., ...
  • Fu-Liang Y., Di-Hong L., Hou-Yu C., Chang-Yun C., Sheng-Da L., ...
  • Xuejue H., Wen-Chin L., Charles K., Hisamoto D., Leland C., ...
  • Intel’s Revolutionary ۲۲nm Transistor Technology, May ۲۰۱۱. http://download.intel.com/newsroom/kits/۲۲nm/pdfs/۲۲nm-detailspresentation.pdf ...
  • Zimpeck A. L., Meinhardt C., Posser G., Reis R., (۲۰۱۶), ...
  • Joshi R. V., Ziegler M. M., Wetter H., (۲۰۱۷), A ...
  • Joshi R. V., Ziegler M., Wetter H., Wandel C., Ainspan ...
  • Song T., Rim W., Park S., Kim Y., Yang G., ...
  • Kang K., Jeong H., Yang Y., Park J., Kim K., ...
  • Sinangil M. E., Lin Y., Liao H. J., Chang J., ...
  • Turi M. A., Delgado-Frias J. G., (۲۰۲۰), Effective low leakage ...
  • Sun J., Li X., Sun Y., Shi Y., (۲۰۲۰), Impact ...
  • Kam H., (۲۰۱۴), A ۱۴nm logic technology featuring ۲ nd-generation ...
  • Lin C., Greene B., Narasimha S., Cai J., Bryant A., ...
  • Giterman R., Shalom A., Burg A., Fish A., Teman A., ...
  • Cho K., Park J., Oh T. W., Jung S.-O., (۲۰۲۰), ...
  • Huo Q., Wu Z., Wang X., Huang W., Yao J., ...
  • Sinha S. K., Chaudhury S., (۲۰۱۳), Impact of Oxide thickness ...
  • Kumar G., Singh A., Raj B., (۲۰۱۸), Design and analysis ...
  • Dresselhaus M. S., Dresselhaus G., Saito R., (۱۹۹۲), Carbon fibers ...
  • Nano HUB Tools [Online]. Available: www.nanohub.org ...
  • Li T., Xie F., Liang X., Xu Q., Chakrabarty K., ...
  • Ahmed Z., Zhang L., Sarfraz K., Chan M., (۲۰۱۶), Modeling ...
  • Tura A., Woo J. C. S., (۲۰۱۰), Performance comparison of ...
  • Chen Y., Fan M., Hu V. P., Su P., Chuang ...
  • Strangio S., Palestri P., Esseni D., Selmi L., Crupi F., ...
  • Knoll L., Zhao Q., Nichau A., Trellenkamp S., Richter S., ...
  • Richter S., Schulte-Braucks C., Knoll L., Luong G. V., Schäfer ...
  • Agrawal N., Liu H., Arghavani R., Narayanan V., Datta S., ...
  • Chang M., Chang S., Chou P., Wu W., (۲۰۱۱), A ...
  • Farkhani H., Peiravi A., Moradi F., (۲۰۱۵), A new write ...
  • Yamaoka M., Osada K., Tsuchiya R., Horiuchi M., Kimura S., ...
  • Kumar R., Pattanaik M., Shukla N., (۲۰۱۲), Characterization of a ...
  • Razavipour G., Afzali-Kusha A., Pedram M., (۲۰۰۹), Design and analysis ...
  • Teman A., Mordakhay A., Mezhibovsky J., Fish A., (۲۰۱۲), A ...
  • Ahmad S., Gupta M. K., Alam N., Hasan M., (۲۰۱۶), ...
  • Lee Y., Park G.-H., Choi B., Yoon J., Kim H.-J., ...
  • Lin Y., Cheng C., Jhan Y., Kurniawan E. D., Du ...
  • Endo K., uchi S. O., Ishikawa Y., Liu Y., Matsukawa ...
  • Bansal A., Mukhopadhyay S., Roy K., (۲۰۰۷), Device-optimization technique for ...
  • Waffle F., Salehuddin F., Mohd Zain A. S., Kaharudin K. ...
  • Nawaz M., Molzer W., Decker S., Giles L.-F., Schulz T., ...
  • Nawaz M., Molzer W., Haibach P., Landgraf E., Roesner W., ...
  • Zhang Z., Jiang X., Wang R., Guo S., Wang Y., ...
  • Fan M., Wu Y., Hu V. P., Hsieh C., Su ...
  • Kerber P., Kanj R., Joshi R. V., (۲۰۱۳), Strained SOI ...
  • Oh T. W., Jeong H., Kang K., Park J., Yang ...
  • Saxena S., Mehra R., (۲۰۱۷), Low-power and high-speed ۱۳T SRAM ...
  • Yang Y., Park J., Song S. C., Wang J., Yeap ...
  • Ebrahimi B., Afzali-Kusha A., Mahmoodi H., (۲۰۱۴), Robust FinFET SRAM ...
  • Carlson A., Guo Z., Balasubramanian S., Zlatanovici R., Liu T. ...
  • Park J., Yang Y., Jeong H., Song S. C., Wang ...
  • Ansari M., Afzali-Kusha H., Ebrahimi B., Navabi Z., Afzali-Kusha A., ...
  • Yang Y., Jeong H., Song S. C., Wang J., Yeap ...
  • Guler A., Jha N. K., (۲۰۱۹), Three-dimensional monolithic FinFET-based ۸T ...
  • Pal P. K., Kaushik B. K., Dasgupta S., (۲۰۱۴), Design ...
  • Zheng P., Connelly D., Ding F., Liu T. K., (۲۰۱۵a), ...
  • Zheng P., Connelly D., Ding F., Liu T. K., (۲۰۱۵b), ...
  • Akkala A. G., Venkatesan R., Raghunathan A., Roy K., (۲۰۱۶), ...
  • Jaksic Z., Canal R., (۲۰۱۳), Comparison of SRAM cells for ...
  • Zhang X., Connelly D., Zheng P., Takeuchi H., Hytha M., ...
  • Zhang X., Connelly D., Takeuchi H., Hytha M., Mears R., ...
  • Mann R. W., Zhao M., Parihar S., Gao Q., Arya ...
  • Kanhaiya P. S., Lau C., Hills G., Bishop M. D., ...
  • You K., Nepal K., (۲۰۱۱), Design of a ternary static ...
  • Zhang Z., Delgado-Frias J. G., (۲۰۱۲), Carbon nanotube SRAM design ...
  • Zhang Z., Delgado-Frias J. G., (۲۰۱۴), Near-threshold CNTFET SRAM cell ...
  • Liu J., Clavel M. B., Hudait M. K., (۲۰۱۷), An ...
  • Makosiej A., Gupta N., Vladimirescu A., Vakul N., Cotofana S., ...
  • Pown M., Lakshmi B., (۲۰۲۰), Investigation of radiation hardened TFET ...
  • Chen Y., Fan M., Hu V. P., Su P., Chuang ...
  • Amir M. F., Trivedi A. R., Mukhopadhyay S., (۲۰۱۶), Exploration ...
  • Peng C., Yang Z., Lin Z., Wu X., Li X., ...
  • Mohammed M. U., Chowdhury M. H., (۲۰۱۸), Reliability and energy ...
  • Luong G. V., Strangio S., Tiedemann A. T., Bernardy P., ...
  • Ahmad S., Ahmad S. A., Muqeem M., Alam N., Hasan ...
  • نمایش کامل مراجع