Effect of Deposition Time on the Morphological Features and Structure of DLC Coatings on Aluminuim-T۶ by PACVD
سال انتشار: 1402
نوع سند: مقاله ژورنالی
زبان: انگلیسی
مشاهده: 72
فایل این مقاله در 5 صفحه با فرمت PDF قابل دریافت می باشد
- صدور گواهی نمایه سازی
- من نویسنده این مقاله هستم
استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:
شناسه ملی سند علمی:
JR_ADMTL-16-1_008
تاریخ نمایه سازی: 12 تیر 1402
چکیده مقاله:
Diamond like Carbon (DLC) was deposited on aluminum substrate using Plasma Assisted Chemical Vapor Deposition (PACVD) route. Spattering, the surface was activated before deposition for increasing adhesion. Deposition time was varied from ۶۰ minutes to ۵ hours. Deposit was characterized using with grazing incidence X-ray diffraction and atomic force microscope. The mechanical property was measured using microhardness and roughness tester. The analysis showed that the deposit consisted of columnar growth of submicron and micron meter scale. Compared to substrate material, deposit showed higher hardness and roughness. These results show that growth of DLC layer includes three stages. The first stage is primary growth of nuclei, and then these nuclei join together in second stage. In third stage, secondary growth of these nuclei happens.
کلیدواژه ها:
نویسندگان
seyed mohammad mahdi shafiei
Department of Mechanical Engineering, West Tehran Branch, Islamic Azad University, Tehran, Iran Department of Mechanical Engineering, Roudehen Branch, Islamic Azad University, Tehran, Iran
Hamed raeiesifard
Department of Mechanical Engineering, West Tehran Branch, Islamic Azad University, Tehran, Iran
kameleh Jafari
Department of Art and Architecture, West Tehran Branch, Islamic Azad University, Tehran, Iran
مراجع و منابع این مقاله:
لیست زیر مراجع و منابع استفاده شده در این مقاله را نمایش می دهد. این مراجع به صورت کاملا ماشینی و بر اساس هوش مصنوعی استخراج شده اند و لذا ممکن است دارای اشکالاتی باشند که به مرور زمان دقت استخراج این محتوا افزایش می یابد. مراجعی که مقالات مربوط به آنها در سیویلیکا نمایه شده و پیدا شده اند، به خود مقاله لینک شده اند :