بررسی اثر PH و دما بر روی حذف نیکل II توسط نانو کامپوزیت TIO2-AG-CHITOSAN در پساب صنعتی

سال انتشار: 1394
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: فارسی
مشاهده: 550

متن کامل این مقاله منتشر نشده است و فقط به صورت چکیده یا چکیده مبسوط در پایگاه موجود می باشد.
توضیح: معمولا کلیه مقالاتی که کمتر از ۵ صفحه باشند در پایگاه سیویلیکا اصل مقاله (فول تکست) محسوب نمی شوند و فقط کاربران عضو بدون کسر اعتبار می توانند فایل آنها را دریافت نمایند.

استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:

لینک ثابت به این مقاله:

شناسه ملی سند علمی:

OGPCONF02_044

تاریخ نمایه سازی: 12 تیر 1395

چکیده مقاله:

در این تحقیق بررسی اثر فتوکاتالیتیکی کامپوزیت TIO2-AG-CHITOSAN بر روی حذف یون نیکل II در پساب صنعتی در حضور اشعه ماورا بنفش پیشنهاد شده است اثر پارامترهای عملیاتی موثر بر فرایند حذف شامل Ph و دما بررسی شد نتایج نشان داد که سیستم TIO2-AG-CHITOSAN/uv قادر به حذف مقدار قابل توجهی فلز نیکل از پساب صنعتی است مطالعه اثر pH نشان داد که محیط های بازی نقش موثری در حذف فلز نیکل دارند همچنین بررسی اثر دما در فرایند حذف نشان داد که تغیر دما تاثیر منفی در راندمان حذف دارند

نویسندگان

عمار پناهی فر

دانشجوی کارشناسی ارشد

شهین حیدری ارجلو

استاد راهنما

مراجع و منابع این مقاله:

لیست زیر مراجع و منابع استفاده شده در این مقاله را نمایش می دهد. این مراجع به صورت کاملا ماشینی و بر اساس هوش مصنوعی استخراج شده اند و لذا ممکن است دارای اشکالاتی باشند که به مرور زمان دقت استخراج این محتوا افزایش می یابد. مراجعی که مقالات مربوط به آنها در سیویلیکا نمایه شده و پیدا شده اند، به خود مقاله لینک شده اند :
  • T.K.sarma , A . Chattopadhyay , J . phys _ ...
  • A.Sugunan , J.Dutta , J . Physi , Seie & ...
  • J. Dutta , H . Hofman , Ency. Nanose & ...
  • نمایش کامل مراجع