توزیع فضایی جریان الکتریکی تونلی در نانوساختارهای مغناطیسی با یک سد پتانسیل در حضور ناخالصی نقطه ای

سال انتشار: 1387
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: فارسی
مشاهده: 1,084

متن کامل این مقاله منتشر نشده است و فقط به صورت چکیده یا چکیده مبسوط در پایگاه موجود می باشد.
توضیح: معمولا کلیه مقالاتی که کمتر از ۵ صفحه باشند در پایگاه سیویلیکا اصل مقاله (فول تکست) محسوب نمی شوند و فقط کاربران عضو بدون کسر اعتبار می توانند فایل آنها را دریافت نمایند.

استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:

لینک ثابت به این مقاله:

شناسه ملی سند علمی:

IPC87_258

تاریخ نمایه سازی: 24 آذر 1388

چکیده مقاله:

در این مقاله توزیع فضایی جریان در سه لایه ای متشکل از یک لایه ی عایق نازک I با ضخامت در حدود نانومتر، میان دو لایه ی فرومغناطیس F در حضور ناخالصی نقطه ای، بررسی شده است. باحل معادله شرودینگر، و با حل دقیق معادله ی دایسون، تابع گرین سیستم محاسبه میشود. باداشتن تابع گرین سیستم، با استفاده از فرمول بندی کوبوتانسوررسانش و در نهایت چگالی جریان الکتریکی در هندسه CCP (جریان، عمود برسطح لایه ها)برای ساختار سه لایه ای محاسبه شده است. در نهایت توزیع فضایی چگالی جریان الکتریکی بر روی سطح لایه ها بر حسب فاصله از مکان ناخالصی برای پیکربندی های مختلف مغناطش در الکترودهای فرومغناطیس و برای کانالهای مختلف اسپینی ترسیم شده است.

نویسندگان

مریم موسوی

مرکز تحقیقات فیزیک پلاسما، دانشگاه آزاد اسلامی واحد علوم و تحقیقات

مرتضی اصلانی نژاد

مرکز تحقیقات فیزیک پلاسما، دانشگاه آزاد اسلامی واحد علوم و تحقیقات - م

فرامرز کنجوری

گروه فیزیک، دانشگاه شاهد، تهران